Bâti de croissance de couches ultra-minces sous ultra-vide. Permet la croissance de couches et de multicouches sur des substrats cristallins (typiquement silicium, MgO, saphir) avec un contrôle des épaisseurs de l’ordre de 0.1 nm.
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Oui
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Nom | Laboratoire | |
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André THIAVILLE | andre.thiaville@u-psud.fr | LABORATOIRE DE PHYSIQUE DES SOLIDES |