Bâti de croissance de couches ultra-minces sous ultra-vide
Description
Bâti de croissance de couches ultra-minces sous ultra-vide. Permet la croissance de couches et de multicouches sur des substrats cristallins (typiquement silicium, MgO, saphir) avec un contrôle des épaisseurs de l’ordre de 0.1 nm.
Portail réalisé en 2013 par des
apprentis
en informatique de Polytech Paris-Sud
Refonte agile du portail en 2014, puis 2015 par Samy GHRIBI, étudiant à Centrale Paris.